德國(guó)斯派克輝光放電光譜儀 型號(hào)：GDA-750

輝光放電分析（GDA）于1968年出現(xiàn)，用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。

這種分析方法不斷地發(fā)展，尤其擅長(zhǎng)于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比，輝光放電

技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)是能夠表層分析樣品的表層。

適用于質(zhì)量控制和材料研究

在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。

表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和

近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。

采用濃度分布分析功能可以精確地測(cè)量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。

對(duì)于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方

法。

采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂

層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。

德國(guó)斯派克輝光放電光譜儀

GDA750可以配備60個(gè)以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂

（鍍）層的深度可測(cè)量至200um

表面分析和獲得的分辨率達(dá)1個(gè)原子層。

分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用；

化學(xué)成分可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時(shí)測(cè)定。

通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產(chǎn)工藝過程佳化和

大程度地避免廢品浪費(fèi)。

GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成分），為復(fù)雜基體材料的分析提供具

有良好線性的工作曲線。

• 主要特點(diǎn)：

1.涂（鍍）層材料和均相材料化學(xué)成分的分析，痕量和微量合

金元素的檢測(cè)和測(cè)量

2.濃度分布測(cè)定和表層測(cè)量數(shù)據(jù)的定性/定量評(píng)價(jià)

3.測(cè)定被分析表面層內(nèi)部的相/相比

4.軟件基于Windows 2000環(huán)境，日常分析功能采用易用的軟件

界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用

5.具有許多適于用戶的軟件功能選項(xiàng)，如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式

德國(guó)斯派克分析儀器公司是目前世界上大的原子發(fā)射光譜儀生產(chǎn)廠家。自1979年成立以來，它不僅繼承了德國(guó)優(yōu)質(zhì)光學(xué)儀器制造的傳統(tǒng)，而且憑借其先進(jìn)技術(shù)和穩(wěn)定可靠的質(zhì)量以及周到的售后服務(wù)，始終處于世界發(fā)射光譜技術(shù)地位。目前，已經(jīng)向用戶提供各類光譜儀。

斯派克公司的產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于：鋼鐵冶金、有色金屬、石油化工、機(jī)械制造、能源電力、鐵路運(yùn)輸、航空航天、食品衛(wèi)生、環(huán)境保護(hù)以及教學(xué)科研等各個(gè)領(lǐng)域。